PCB沉金工藝流程簡介概述
- 發(fā)布時間:2025-05-21 16:23:13
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PCB沉金(化學鍍鎳浸金,ENIG)是一種常見的表面處理工藝,主要用于提升PCB焊盤的可焊性、平整度及抗氧化性。以下是其工藝流程的概述:
1. 前處理
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清潔與除油:去除銅面氧化層、油污及雜質(zhì),通常采用酸性或堿性清洗劑。
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微蝕:通過微蝕液(如過硫酸鈉或硫酸雙氧水)輕微腐蝕銅面,形成微觀粗糙度,增強后續(xù)鍍層附著力。
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水洗:多次水洗確保表面潔凈。
2. 化學鍍鎳(Ni沉積)
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原理:通過自催化化學反應在銅面沉積一層均勻的鎳磷合金(Ni-P,磷含量6-9%)。
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關(guān)鍵參數(shù):
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溫度:85-95℃
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pH值:4.5-5.5
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時間:15-30分鐘(控制鎳層厚度3-6μm)
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作用:提供可焊性基底,防止銅擴散,增強耐腐蝕性。
3. 浸金(Au沉積)
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原理:利用置換反應在鎳層表面置換出一層薄金(0.05-0.15μm)。
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關(guān)鍵參數(shù):
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溫度:80-90℃
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pH值:4.0-5.0
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時間:5-10分鐘
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作用:保護鎳層不被氧化,提供低接觸電阻的焊接表面。
4. 后處理
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水洗與干燥:徹底清洗殘留藥液,熱風烘干。
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檢驗:
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厚度測試(XRF或切片分析)
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結(jié)合力測試(膠帶剝離)
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外觀檢查(無黑盤、空洞、漏鍍等缺陷)。
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沉金工藝特點
優(yōu)點:
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高平整度:適合高密度BGA、QFP等精細元件焊接。
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抗氧化性強:存儲時間長(6-12個月)。
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接觸性能好:適用于金手指、連接器等高頻/高可靠性場景。
缺點:
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成本高:金價格昂貴,工藝復雜。
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黑盤風險:鎳層過度腐蝕可能導致焊接不良(需嚴格控制工藝參數(shù))。
應用場景
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高密度互連(HDI)板、柔性板(FPC)。
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高頻/高速信號傳輸(如5G、射頻模塊)。
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金手指、測試點、接觸式連接器等需要多次插拔的場景。
總結(jié)
沉金工藝通過鎳層提供機械支撐和可焊性,金層保障抗氧化性,是高端PCB制造的關(guān)鍵技術(shù),尤其適用于對可靠性和信號完整性要求高的電子產(chǎn)品。需嚴格控制各環(huán)節(jié)參數(shù)以避免缺陷(如黑盤),并平衡成本與性能需求。
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